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攝譜儀光譜定量分析隨機誤差的來源
發(fā)布時間：2021-09-02 09:14:18 點擊：4159
對同一樣品同一物理量，在嚴格控制各測試因素變化的條件下，進行多次分析測量，就會發(fā)現測量結果一般服從正態(tài)分布的統計規(guī)律，隨機誤差反映了測量結果的精密度。
光譜儀測量
在光譜分析中，隨機誤差是由多種原因引起的，下面以攝譜法為例說明引起光譜分析隨機誤差的各種因素。
1.標準樣品和分析樣品引起的隨機誤差。因為光譜分析只在樣品很少部分上分析，所以分析元素分布的不均勻，組織結構的變化，使光源作用于樣品的不同部位所得的分析結果都會有所不同。
2.光源不穩(wěn)定引起的隨機誤差。這主要與電源電壓的波動，工作參數的波動，光源光點的不穩(wěn)定，分析間隙不一致，電極形狀不一致，以及選擇的分析線對相對強度不穩(wěn)定等有關。
3.光譜干板引起的誤差。干板乳劑中鹵化銀晶粒分布的不均勻引起感光板各個部位的靈敏度與反襯度稍有不同，再加上暗室處理的不一致引起了這方面的誤差。
4.測光過程引起的誤差。由于測微光度計的電源的波動，各種雜散光波動，感光板與儀器光學元件的污損，測光操作（如調焦、讀數不當等）引起。
5.計算過程引起的誤差。這部分主要是由于數據處理，繪制工作曲線等引起的誤差，這部分的誤差一般來說是比較小的。
光譜分析結果的總誤差是由上述五個單元的誤差疊加的結果。學習隨機誤差的相關知識，保證測量結果準確性。上一篇：儀器分析檢測隨機誤差和系統誤差 下一篇：光譜分析儀的系統誤差都是從哪來的？
